基片的测试反射率与理论差别很大，问题出在哪里？

测试了一种玻璃基片，（折射率与K9相差不多，约为1.52），理论计算，基片的双面反射率应该在8.2%左右，实际测试表明：基片的测试反射率与理论差别很大，一是总体反射率偏高；二是整体曲线起伏大，尤其是750-850间，结合测试的平滑透过曲线，这反射曲线肯定是有问题的，因为是别人测试的，且测试人员不太明白光学方面的，他也说不出所以然来，想问下论坛上搞测试的朋友，问题出在哪里？（测试入射角8度）

光谱仪检查下吧。然后自己测试下看看。

紫外比可见反射率还低？你确定基底上没有镀膜吗？

这个是单面打磨处理后的测试结果，还是比理论值偏大。
曲线起伏还是较大（同透射曲线相比）

基片的要求保证没有问题，和光度计准确，一般都是和理论相符的

先测试下其他的产品比如标准片看下光谱仪是否存在问题。走个基准看下。

看曲线好像出现干涉调制，是不是打磨的基片仍然厚度在几个微米内，加厚看看。

谢谢了，我也正想发表这个问题，不知道是不是光谱仪不准，我们用的是奥林巴斯反射率仪器

具体是啥问题我不敢说，但可以肯定是测试的问题。估计有可能对方的设备是测相对反射率的，其标准镜的反射率降低了，测出来的反射率也就相应的偏高了，用这种仪器测试高反膜的反射率甚至会测出110%以上的反射率值就是这个原因。

olympus 的设备不用表面打毛涂黑处理也可以测试啊，我觉得是不是镜片表面腐蚀掉了？