抛光纹路困扰

我是论坛新丁，有个棘手的问题想请教各位大侠，请不吝赐教。

材料是人工水晶晶片，进行双面平面抛光，抛光粉为CeO2 #8000目，抛光液利用马达循环，上、下盘都贴付有浅槽的黑色抛光皮，抛光时上、下盘各自顺逆时针转动，上盘没有气压控制，靠上盘自身重量。

晶片抛光完成后，用激光干涉仪可以看出晶片满面都有有规则的抛光纹路，请问：这个怎么可以解决？谢谢！

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黑色抛光皮是什么东东？还有你的上盘没有气压装置，靠自身重力挤压对与不同产品来说是不合适的。有可能你的这个片子正好压力过大留下印记

图像是干涉条纹，应该没什么问题

水晶的没做 过 ...................好像是图像 干涉条纹，应该没什么问题

纵向的是干涉纹,横向的好象是抛光纹路了.

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纹路是指擦痕，这哪是擦痕。垂直的是两面干涉的结果，表明左右是楔角方向，哪面薄需要用手指点一会，局部加热，条纹凸向薄端。横向条纹是表面与干涉仪标准面干涉的结果。具体是前后那个，你用油涂破坏一面就知道了。从两面的干涉图可见边部塌边1道圈，高低是低光圈2道。原因是抛光皮软，抛光时间长。

楼上讲的不全对。
垂直方向干涉条纹，清晰的，是面形（光圈数）
水平方向干涉条纹，较模糊的，是镜片的平行度，因为平行度的判断与镜片尺寸有关，粗粗估计，20"左右，对双抛而言，是比较差的了，同意LSD的改善方法

受教了，非常感谢！